武汉微电子净化工程

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光学微电子武汉净化工程又称清净室或无尘室，目前已是精密制造、半导体、光学制造、液晶制造、线路板制造和医药、生物化学、食品制造等行业不可或缺的重要设施。光电车间武汉净化工程是指不同级别电子厂净化车间或电子实验室的半导体、微电子、光电技术、光学仪器、PCB、食品、模具等工程。

近几年来，因技术的创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化的需求越发迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目。按行业标准要求，净化级别从 10-30 万级。净化的程度也直接影响了电子产品制作的质量。

一、光学微电子武汉净化工程一般包括哪些功能分区：

1.洁净生产区

2.管理区（包括办公、值班、管理和休息等）

3.洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）

二、电子洁净实验室净化标准参数：

根据电子洁净室（区）空气洁净级别，不同等级净化标准如下：

① 百级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为3500每立方米、≥0.5μm尘粒数为0、微生物最大允许数浮游菌为5每立方米、沉降菌为1。

② 千级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为350000每立方米、≥0.5μm尘粒数为2000、微生物最大允许数浮游菌为100每立方米、沉降菌为3。

③ 十万级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为3500000每立方米、≥0.5μm尘粒数为20000、微生物最大允许数浮游菌为500每立方米、沉降菌为10。

④ 三十万级电子洁净室尘粒（≥0.5μm）最大允许数为10500000每立方米、≥0.5μm尘粒数为60000、微生物最大允许数浮游菌为1000每立方米、沉降菌为15。

三、光学微电子武汉净化工程换气参数

1. 换气次数：十万级净化≥15次；万级净化≥20次；千级净化≥30次

2. 平均风速：10级、100级为0.3-0.5m/s

3. 噪声：≤65dB(A)

4. 新风补充量：新风补充量是总风量的10%-30%

5. 照度：300LX

6. 压差：主车间对相邻房间≥5Pa

7. 温度：冬季＞16℃；夏季＜26℃；允许波动范围为±2℃

7. 湿度：GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜，电子车间湿度略高以免产生静电。

四、电子洁净车间实验室通用结构材料：

1. 送回风管道用热渡锌板制成，贴净化保温有良好效果的阻燃型PF发泡塑胶板。

2. 高效送风口用不锈钢框架，美观清洁，冲孔网板用烤漆铝板，不生锈不粘尘，宜清洁。

3. 地面可采用环氧自流坪地坪或高级耐磨塑料地板，有防静电要求的，可选用防静电型。

4. 净化厂房墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板制造，其特点为美观、刚性强。圆弧墙 角、门、窗框等一般采用专用氧化铝型材制造。